原理：

　　离子束刻蚀是在真空条件下，利用辉光放电原理通过离子源将气体分解为离子，离子经过电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。当定向高能离子向固体靶撞击时,能量从入射离子转移到固体表面原子上，如果固体表面原子间结合能低于入射离子能量时，固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。

优势：

• 入射粒子方向性好、无钻蚀、陡直度高；

• 刻蚀速率可控性好，图形分辨率高，CD可小于0.1um；

• 属于物理刻蚀，可以突破刻蚀材料的限制；

• 刻蚀过程中可改变离子束入射角来控制图形轮廓，加工特殊的结构；

• 重复性好，稳定性高。

用途：

　　可用于刻蚀加工各种金属（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及氧化物、氮化物、聚合物、陶瓷等材料。

　　目前离子束刻蚀在非硅材料方面优势明显，在声表面波、薄膜压力传感器、红外传感器等方面具有广泛的用途。

我们的离子束刻蚀系统：

　　维开可以为不同领域的客户提供多种离子束刻蚀产品，可以选配各种离子源。