原理：

　　多腔室Cluster系统一般使用一个独立的中央传输腔室（配有全自动机械臂）将多个工艺腔室连接在一起，可以在不破真空的条件下按照预设好的程序自动将工件在不同工艺腔室间转移，完成复杂的工艺。

优势：

• 各工艺腔室相互独立，最大程度的减少交叉污染；

• 可通过不同的工艺腔室将磁控溅射、蒸发、刻蚀、热处理能力结合起来；

• 可有效提高工艺效率。

用途：

　　主要应用在半导体、微电子、航空航天、激光器、红外、光学、科学研究等领域。

我们的多腔室Cluster系统：

　　维开可以为不同领域的客户提供多种Cluster系统，以用途可以分为生产型和研发型两类。

生产型多腔室Cluster系统：

• 可以选配BROOKS全自动传输腔室，也可根据客户需要定制专用中央腔室；

• 可选配单腔多靶和单腔单靶工艺腔室；

• 可选配固定磁铁靶枪和旋转磁控管；

• 可集成离子束刻蚀等功能；

• 可集成低温/高温工件台。

研发型多腔室Cluster系统：

• 可集成磁控溅射/电子束蒸发/电阻蒸发/ALD/MBE工艺腔室；

• 可集成离子束刻蚀/反应磁控溅射工艺腔室，可沉积光学薄膜；

• 可集成超高真空(UHV)测试腔室，如AES, XPS, 光谱仪等。