M800是维开科技开发的一款高精度型磁控溅射系统，镀膜均匀性高，维护简单，可以满足批量生产需求和实验室对高精度反应型磁控溅射和填孔工艺的需求。

§

真空进样室：

多片全自动进样室，可选配

§

抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

§

真空检测：

全量程真空规+薄膜真空规

§

流量控制：

数字式质量流量计

§

溅射电源：

直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§

偏压：

射频/脉冲直流

§

离子源：

射频&考夫曼&霍尔离子源，可选配

§

溅射靶枪：

最多4个

§

极限真空度：

1E-5Pa

§

均匀可镀区：

5*Ø300mm

§

镀膜均匀性：

±1.5%

§

镀膜重复性：

±2%

§

占地面积：

4.35m（长）*4.42m（宽）*2.85m（高）