I2000是维开科技开发的一款链式生产型磁控溅射系统，镀膜面积大，工作稳定，自动化控制程度高，维护简单，可以满足大批量生产和大尺寸工件溅射镀膜的需求。

§ 真空进样室：

全自动进样室，可选配

§ 抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

§ 真空检测：

全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：

数字式质量流量计

直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§ 偏压：

射频/脉冲直流

§ 离子源：

阳极层/考夫曼/射频离子源，可选配

§ 极限真空度：

3E-5Pa

§ 工件盘控温：

室温至300℃

§ 均匀可镀区：

1000mm（长）*1000mm（宽）

§ 镀膜均匀性：

±3%

§ 镀膜重复性：

±2%

§ 占地面积：

6.0m（长）*3.7m（宽）*2.7m（高）