E500D是维开科技开发的一款研发型电子束蒸发系统，上下两个腔室，互为进样室，有效解决蒸发设备不易配进样室的问题，可满足中小批量生产和实验平台的高等级需求。

§ 自动进样室：

单片/多片全自动进样室，可选配

§ 抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

§ 真空检测：

全量程真空规

§ 电子枪功率：

最大10千瓦

§ 坩埚数量：

最多6个

§ 离子源：

考夫曼/霍尔离子源

§ 膜厚监控：

晶振控制器

§ 挂具类型：

穹顶式/平盘

§ 工件角度：

-45°至+45°可调

§ 极限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盘控温：

室温至500℃

§ 均匀可镀区：

最大Ø260mm

§ 镀膜均匀性：

±2%

§ 镀膜重复性：

±2%

§ 占地面积：

3.2m（长）*2.4m（宽）*2.8m（高）