C500是维开科技开发的一款生产型多腔室磁控溅射系统，功能强大，可扩展性强，稳定可靠，自动化控制程度高，可满足半导体级别的批量生产需求。

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真空工艺腔：

最多5个

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工艺条件：

磁控溅射/除气/预清洗

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真空进样室：

最多2个

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自动进样室：

集成BROOKS系统

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离子源：

可选配直流/射频离子源

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抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

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真空检测：

全量程真空规+薄膜真空规

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流量控制：

数字式质量流量计

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极限真空度：

1E-5Pa

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工件盘控温：

-50℃至500℃

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均匀镀膜区：

Ø300mm

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均匀刻蚀区：

Ø250mm

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镀膜/刻蚀均匀性：

±2%

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占地面积：

3.73m（长）*2.75m（宽）*2.2m（高）