维开目前掌握多项PVD关键核心技术，可独立研发制造各类真空镀膜系统及关键零部件，从而可真正实现为每一位客户提供最合适的PVD设备和工艺。

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离子源：

各种口径4寸至8寸霍尔源，射频源和考夫曼源。

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标准溅射靶枪：

直径2寸至12寸圆形溅射靶枪。

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矩形靶枪：

长度500毫米至1200毫米矩形靶枪。

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镀膜源：

用于沉积特殊材料如铟（In）、ZnS等的专用镀膜源。

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自动机械手：

多款自动二维/三维机械手。

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工装挂具：

适用于不同工艺需求的二十余种工件台及挂具。

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工件盘温控：

可提供-80℃至1200℃温控的各类工件台。

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控制系统：

针对真空镀膜应用开发的VKOS全自动控制系统。