V550是维开科技开发的一款离子源增强型反应磁控溅射系统，膜层质量好，自动化程度高，维护简单，可满足企业和研究所研发小批量生产需求。

§ 真空进样室：

单片/多片全自动进样室，可选配

§ 抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

§ 真空检测：

全量程真空规+薄膜真空规

§ 流量控制：

数字式质量流量计

§ 溅射电源：

直流/射频/脉冲直流，可自由切换

§ 偏压：

射频/脉冲直流

§ 离子源：

射频&考夫曼&霍尔离子源，可选配

§ 溅射靶枪：

最多2个

§ 极限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盘控温：

-50℃至800℃

§ 均匀可镀区：

最大Ø200mm

§ 镀膜均匀性：

±2%

§ 镀膜重复性：

±2%

§ 占地面积：

3.61m（长）*2.7m（宽）*2.4m（高）