E1100D是维开科技开发的一款生产型电子束蒸发系统，镀膜面积大，工作稳定，自动化控制程度高，维护简单，可以满足大批量生产和大尺寸工件蒸发镀膜的需求。

§ 抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

§ 真空检测：

全量程真空规

§ 电子枪功率：

最大10千瓦

§ 坩埚数量：

最多8个

§ 离子源：

射频/考夫曼/霍尔离子源

§ 膜厚监控：

晶振控制器

§ 挂具类型：

穹顶式/行星式

§ 极限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盘控温：

室温至300℃

§ 均匀可镀区：

最大Ø960mm

§ 镀膜均匀性：

±2%

§ 镀膜重复性：

±2%

§ 占地面积：

3.9m（长）*5.0m（宽）*3.2m（高）