E1100是维开科技开发的一款生产型电子束蒸发系统，镀膜面积大，工作稳定，自动化程度高，维护简单，可满足大批量生产和大尺寸工件蒸发镀膜的需求。

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抽气系统：

低温泵/磁悬浮分子泵+干式机械泵

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真空检测：

全量程真空规

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电子枪功率：

最大10千瓦

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坩埚数量：

最多8个

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离子源：

射频/考夫曼/霍尔离子源

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膜厚监控：

晶振控制器

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挂具类型：

穹顶式/克努曾/行星式

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极限真空度：

2E-5Pa

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工件盘控温：

室温至300℃

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均匀可镀区：

最大Ø300mm

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镀膜均匀性：

±2%

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镀膜重复性：

±2%

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占地面积：

4m（长）*4m（宽）*3m（高）